[发明专利]一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件有效
申请号: | 201810069553.0 | 申请日: | 2018-01-24 |
公开(公告)号: | CN108227047B | 公开(公告)日: | 2019-08-13 |
发明(设计)人: | 韩敬华;冯国英;沈雄;姜越;周寿桓 | 申请(专利权)人: | 四川大学 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B1/11 |
代理公司: | 成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 | 代理人: | 李凌峰 |
地址: | 610065 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 光学元件 后表面 损伤 基底 缓冲层薄膜 激光诱导 声阻抗 应力系数 薄膜 基底后表面 基底材料 冲击波 张应力 相减 相加 | ||
【权利要求书】:
1.一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件,包括基底及所需薄膜,其特征在于,还包括缓冲层薄膜,所述缓冲层薄膜位于基底后表面与所需薄膜之间;
所述缓冲层薄膜所采用材料的声阻抗数值与基底材料的声阻抗数值相减后的绝对值小于等于基底材料和缓冲层薄膜材料的声阻抗相加后与应力系数之积,其中应力系数决定于基底材料的抗张应力阈值和冲击波峰值,数值上等于两者之比。
2.如权利要求1所述的一种减缓或消除激光诱导光学元件后表面损伤的光学元件,其特征在于,所述缓冲层薄膜相对于入射激光属于高透过率薄膜,具有高于90%的透过率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于四川大学,未经四川大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810069553.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。