[发明专利]一种碳/碳复合材料的快速低成本CVD致密方法有效
申请号: | 201810066833.6 | 申请日: | 2018-01-24 |
公开(公告)号: | CN108220913B | 公开(公告)日: | 2020-01-14 |
发明(设计)人: | 罗昆鹏;姜召阳;陈小飞;曹磊;张贵歧;高晓佳;王春梅;于洪刚;崔树永 | 申请(专利权)人: | 航天睿特碳材料有限公司 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/46;C23C16/455 |
代理公司: | 11212 北京轻创知识产权代理有限公司 | 代理人: | 谈杰 |
地址: | 253700 山东省德州市庆云红*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明公开了一种碳/碳复合材料的快速低成本CVD致密方法,将预制体与内芯模装配在一起,进行高温预处理,处理后将预制体与内芯模置于CVD设备沉积室的上下石墨电极之间,加热并通入碳源气体,经过40~200h,即可一次性制备碳/碳复合材料产品。本发明方法有如下优势特点:1.集温差法、限气法以及自发热特点的沉积工艺优势一体,不仅有效预防表层热解碳结壳对沉积致密的影响,增强碳源气体向预制体内扩散的能力,可大幅度提升沉积效率;2.避免增密不均匀问题的出现,产品质量一致;3.生产能耗低,有较低的工艺生产成本;4.气流的控制程度高,气体利用率高;5.预制体与石墨内芯模的脱模容易,操作性好;6.可精确控制产品密度状态,获得准确的产品效果。 | ||
搜索关键词: | 碳/碳复合材料 致密 预制体 碳源气体 低成本 内芯模 沉积 高温预处理 气体利用率 一次性制备 产品效果 沉积效率 工艺生产 工艺优势 密度状态 生产能耗 石墨电极 石墨内芯 优势特点 有效预防 质量一致 不均匀 沉积室 热解碳 温差法 自发热 结壳 气法 脱模 加热 预制 装配 体内 扩散 | ||
【主权项】:
1.一种碳/碳复合材料的快速低成本CVD致密方法,其特征在于:包括以下步骤:/n(1)根据预制体内表面尺寸设计内芯模,内芯模外径较预制体内径小3~6mm;/n(2)将预制体与内芯模装配在一起,内芯模与预制体之间使用石墨纸间隔,共同进行高温预处理,预处理温度为2000℃~2500℃,保温4~8h;/n(3)将高温处理后预制体与内芯模置于CVD设备沉积室的下石墨电极上;/n(4)在预制体外套设限气薄壁石墨筒,限气薄壁石墨筒外壁缠绕软毡保温层;/n(5)布置热电偶,热电偶穿过软毡保温层及限气薄壁石墨筒,所述热电偶测温头置于预制体外表面;/n(6)在预制体与内芯模顶部放置上石墨电极,内芯模及预制体将上下石墨电极连接,形成电流回路;/n(7)设备通电开始升温至700℃后,通入碳源气体,以1℃~10℃/h的升温速率至1200℃,气体流量为2.0~4.0m
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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