[发明专利]一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底及其制备方法在审
申请号: | 201810029078.4 | 申请日: | 2018-01-12 |
公开(公告)号: | CN108220883A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 洪瑞金;邵文;孙文峰;邓操;陶春先;张大伟 | 申请(专利权)人: | 上海理工大学 |
主分类号: | C23C14/18 | 分类号: | C23C14/18;C23C14/30;C23C14/58 |
代理公司: | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人: | 郁旦蓉 |
地址: | 200093 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底,包括:石英基片;以及贵金属膜层,沉积于石英基片上,其中,贵金属膜层的材料为Ag、Au或Cu。本发明还公开了一种制备激光诱导的表面等离子体性能可调基底的方法,包括如下步骤:步骤1,依次采用丙酮、酒精、去离子水对石英基片进行超声波清洗,以除去表面氧化物或杂质;步骤2,利用电子束蒸发镀膜系统在石英基片上沉积贵金属膜层;步骤3,利用二氧化碳激光器辐照贵金属膜层,将该贵金属薄膜转化为贵金属颗粒,即得到表面等离子体性能可调基底。 | ||
搜索关键词: | 表面等离子体 贵金属膜层 石英基片 基底 可调 激光诱导 沉积 制备 电子束蒸发镀膜系统 二氧化碳激光器 表面氧化物 超声波清洗 贵金属薄膜 贵金属颗粒 去离子水 辐照 丙酮 酒精 转化 | ||
【主权项】:
1.一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底,其特征在于,包括:石英基片;以及贵金属膜层,沉积于所述石英基片上,其中,所述贵金属膜层的材料为Ag、Au或Cu。
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