[发明专利]一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底及其制备方法在审
| 申请号： | 201810029078.4 | 申请日： | 2018-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN108220883A | 公开（公告）日： | 2018-06-29 |
| 发明（设计）人： | 洪瑞金;邵文;孙文峰;邓操;陶春先;张大伟 | 申请（专利权）人： | 上海理工大学 |
| 主分类号： | C23C14/18 | 分类号： | C23C14/18;C23C14/30;C23C14/58 |
| 代理公司： | 上海德昭知识产权代理有限公司 31204 | 代理人： | 郁旦蓉 |
| 地址： | 200093 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面等离子体 贵金属膜层 石英基片 基底 可调 激光诱导 沉积 制备 电子束蒸发镀膜系统 二氧化碳激光器 表面氧化物 超声波清洗 贵金属薄膜 贵金属颗粒 去离子水 辐照 丙酮 酒精 转化 | ||
【权利要求书】：
1.一种激光诱导的表面等离子体性能可调基底，其特征在于，包括：
石英基片；以及
贵金属膜层，沉积于所述石英基片上，
其中，所述贵金属膜层的材料为Ag、Au或Cu。
2.根据权利要求1所述的激光诱导的表面等离子体性能可调基底的制备方法，其特征在于：
其中，所述贵金属膜层的厚度为15mm。
3.一种制备如权利要求1所述的激光诱导的表面等离子体性能可调基底的方法，其特征在于，包括如下步骤：
步骤1，依次采用丙酮、酒精、去离子水对所述石英基片进行超声波清洗，以除去表面氧化物或杂质；
步骤2，利用电子束蒸发镀膜系统在所述石英基片上沉积所述贵金属膜层；
步骤3，利用二氧化碳激光器辐照所述贵金属膜层，将该贵金属薄膜转化为贵金属颗粒，即得到表面等离子体性能可调基底。
4.根据权利要求3所述的制备激光诱导的表面等离子体性能可调基底的方法，其特征在于：
其中，所述步骤3中二氧化碳激光器发出的激光的功率范围为0-3W。
5.根据权利要求4所述的制备激光诱导的表面等离子体性能可调基底的方法，其特征在于：
其中，所述二氧化碳激光器发出的激光的功率为3W。
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