[发明专利]光学相位差构件及光学相位差构件的制造方法在审
| 申请号： | 201810029011.0 | 申请日： | 2018-01-12 |
| 公开（公告）号： | CN108693585A | 公开（公告）日： | 2018-10-23 |
| 发明（设计）人： | 田中大直;须崎吾郎;后藤正直 | 申请（专利权）人： | JXTG能源株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 贾磊;郭晓宇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种光学相位差构件及光学相位差构件的制造方法。本发明的光学相位差构件具备：基材：具有第1面及位于该第1面相反侧的第2面，第1凹凸结构体，形成于上述第1面上，由第1无机材料构成，及第2凹凸结构体：形成于上述第2面上，由第2无机材料构成；上述第1凹凸结构体具备多个凸部，该等多个凸部于与上述第1面平行的第1方向上延伸，并且宽度朝向自上述基材的上述第1面远离的方向变小，上述第2凹凸结构体具备多个凸部，该等多个凸部于上述第1方向上延伸，并且宽度朝向自上述基材的上述第2面远离的方向变小。本发明具有高透射率，可产生所期望的相位差且机械强度及耐湿性高。 | ||
| 搜索关键词： | 光学相位差 凹凸结构 凸部 基材 无机材料 变小 高透射率 耐湿性 相位差 延伸 制造 平行 期望 | ||
【主权项】：
1.一种光学相位差构件，其特征在于，其具备：基材：具有第1面及位于该第1面相反侧的第2面，第1凹凸结构体：形成于该第1面上，由第1无机材料构成，及第2凹凸结构体：形成于该第2面上，由第2无机材料构成；该第1凹凸结构体具备多个凸部，该多个凸部于与该第1面平行的第1方向上延伸，并且宽度朝向自该基材的该第1面远离的方向变小；该第2凹凸结构体具备多个凸部，该多个凸部于该第1方向上延伸，并且宽度朝向自该基材的该第2面远离的方向变小。
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