[发明专利]光学相位差构件及光学相位差构件的制造方法

权利要求书

1.一种光学相位差构件，其特征在于，其具备：

基材：具有第1面及位于该第1面相反侧的第2面，

第1凹凸结构体：形成于该第1面上，由第1无机材料构成，及

第2凹凸结构体：形成于该第2面上，由第2无机材料构成；

该第1凹凸结构体具备多个凸部，该多个凸部于与该第1面平行的第1方向上延伸，并且宽度朝向自该基材的该第1面远离的方向变小；

该第2凹凸结构体具备多个凸部，该多个凸部于该第1方向上延伸，并且宽度朝向自该基材的该第2面远离的方向变小。

2.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，该第1凹凸结构体及该第2凹凸结构体的各凸部的纵横比为1～5的范围内。

3.如权利要求1所述的光学相位差构件，其特征在于，该第1无机材料及该第2无机材料为溶胶-凝胶材料的硬化物。

4.如权利要求1至3中任一项所述的光学相位差构件，其特征在于，若将该基材的折射率设为n₀，将构成该第1凹凸结构体的材料的折射率设为n₁，将构成该第2凹凸结构体的材料的折射率设为n₂，则n₁-n₀的值及n₂-n₀的值为-0.4～0.4的范围内。

5.如权利要求1至3中任一项所述的光学相位差构件，其特征在于，其具备：

高折射率层：形成于该第1凹凸结构体的该凸部的上表面及侧面，具有较该第1凹凸结构体的该凸部高的折射率，及

中折射率层：形成于该第1凹凸结构体的该凸部上表面的该高折射率层上，由具有较该高折射率层低的折射率的层构成；

在形成于该第1凹凸结构体相邻的该凸部相对向的该侧面的该高折射率层之间存在空气层。

6.如权利要求5所述的光学相位差构件，其特征在于，该中折射率层形成于该第1凹凸结构体的该凸部的上表面及侧面的该高折射率层上。

7.如权利要求1至3中任一项所述的光学相位差构件，其特征在于，其具备：

高折射率层：形成于该第1凹凸结构体的该凸部的上表面及侧面，具有较该第1凹凸结构体的该凸部高的折射率，及

积层体：形成于该第1凹凸结构体的该凸部的上表面的该高折射率层上，由2n+1个层的积层体构成，n为正整数；

在形成于该第1凹凸结构体相邻的该凸部相对向的该侧面的该高折射率层之间存在空气层；

该积层体具备：

第1层：形成于该高折射率层上，

第2k层：形成于第2k-1层上，k为1～n的整数，及

第2k+1层：形成于该第2k层上；

该第1层的折射率较该高折射率层的折射率低；

该第2k+1层的折射率较该第2k层的折射率低。

8.如权利要求7所述的光学相位差构件，其特征在于，该第2k-1层的折射率较该第2k层的折射率低，k为1～n的整数。

9.如权利要求7所述的光学相位差构件，其特征在于，该积层体形成于该第1凹凸结构体的该凸部的上表面及侧面的该高折射率层上。

10.如权利要求1至3中任一项所述的光学相位差构件，其特征在于，该第1凹凸结构体及该第2凹凸结构体均露出表面。

11.一种投影机，其特征在于，具备权利要求1至10中任一项的所述的光学相位差构件。

12.一种光学相位差构件的制造方法，其是制造权利要求1至10中任一项所述的光学相位差构件的方法，其特征在于，包括如下步骤：

于基材的第1面上，形成由第1无机材料构成的第1凹凸结构体；及

于该基材的位于该第1面相反侧的第2面上，形成由第2无机材料构成的第2凹凸结构体。