[发明专利]一种激光功率调节方法及系统在审

专利信息
申请号: 201810019630.1 申请日: 2018-01-09
公开(公告)号: CN108297402A 公开(公告)日: 2018-07-20
发明(设计)人: 张李超;张楠;陈锦锋;赵祖烨;史玉升 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: B29C64/153 分类号: B29C64/153;B29C64/386;B33Y50/00
代理公司: 北京高沃律师事务所 11569 代理人: 王戈
地址: 430000 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种激光功率调节方法及系统。该方法包括:获取制造物体的三维立体模型;根据设定的高度阈值对所述三维立体模型进行切片,得到多个切片位图,所述切片位图包括多个像素点;提取所述切片位图的轮廓边界的第一像素点;判断所述切片位图内存在的第二像素点与所述第一像素点的距离是否在距离阈值范围内;若是,则确定所述第二像素点为待处理像素点;若否,则确定所述第二像素点为未处理像素点;采用高斯滤波函数对所述第一像素点和所述待处理像素点进行处理,得到处理后的像素点;获取所述处理后的像素点的灰度值以及未处理像素点的灰度值;根据各所述灰度值调节扫描所述处理后的像素点以及未处理像素点时的激光功率。
搜索关键词: 像素点 切片 未处理 灰度 激光功率调节 三维立体模型 待处理像素 高斯滤波 激光功率 轮廓边界 扫描 制造
【主权项】:
1.一种激光功率调节方法,其特征在于,所述方法包括:获取制造物体的三维立体模型;根据设定的高度阈值对所述三维立体模型进行切片,得到多个切片位图,所述切片位图包括多个像素点;提取所述切片位图的轮廓边界的第一像素点;判断所述切片位图内存在的第二像素点与所述第一像素点的距离是否在距离阈值范围内;若是,则确定所述第二像素点为待处理像素点;若否,则确定所述第二像素点为未处理像素点;采用高斯滤波函数对所述第一像素点和所述待处理像素点进行处理,得到处理后的像素点;获取所述处理后的像素点的灰度值以及未处理像素点的灰度值;根据各所述灰度值调节扫描所述处理后的像素点以及未处理像素点时的激光功率。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201810019630.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top