[发明专利]一种激光功率调节方法及系统在审
申请号: | 201810019630.1 | 申请日: | 2018-01-09 |
公开(公告)号: | CN108297402A | 公开(公告)日: | 2018-07-20 |
发明(设计)人: | 张李超;张楠;陈锦锋;赵祖烨;史玉升 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | B29C64/153 | 分类号: | B29C64/153;B29C64/386;B33Y50/00 |
代理公司: | 北京高沃律师事务所 11569 | 代理人: | 王戈 |
地址: | 430000 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 像素点 切片 未处理 灰度 激光功率调节 三维立体模型 待处理像素 高斯滤波 激光功率 轮廓边界 扫描 制造 | ||
1.一种激光功率调节方法,其特征在于,所述方法包括:
获取制造物体的三维立体模型;
根据设定的高度阈值对所述三维立体模型进行切片,得到多个切片位图,所述切片位图包括多个像素点;
提取所述切片位图的轮廓边界的第一像素点;
判断所述切片位图内存在的第二像素点与所述第一像素点的距离是否在距离阈值范围内;
若是,则确定所述第二像素点为待处理像素点;
若否,则确定所述第二像素点为未处理像素点;
采用高斯滤波函数对所述第一像素点和所述待处理像素点进行处理,得到处理后的像素点;
获取所述处理后的像素点的灰度值以及未处理像素点的灰度值;
根据各所述灰度值调节扫描所述处理后的像素点以及未处理像素点时的激光功率。
2.根据权利要求1所述的一种激光功率调节方法,其特征在于,提取所述切片位图的轮廓边界的第一像素点,具体包括:
对所述切片位图进行二值化处理,得到二值化图像;
获取所述二值化图像中像素点的灰度值;
判断各像素点相邻的全部像素点的灰度值是否均相同;
若是,提取所述像素点为第一像素点。
3.根据权利要求2所述的一种激光功率调节方法,其特征在于,所述对所述切片位图进行二值化处理,得到二值化图像,具体包括:
将所述切片位图分为打印区域以及非打印区域;
对所述打印区域以及所述非打印区域进行二值化处理,得到处理后的打印区域以及处理后的非打印区域。
4.根据权利要求3所述的一种激光功率调节方法,其特征在于,所述获取所述二值化图像中像素点的灰度值,包括:获取所述处理后的打印区域的像素点的灰度值以及所述处理后的非打印区域的像素点的灰度值。
5.根据权利要求1所述的一种激光功率调节方法,其特征在于,采用高斯滤波函数对第一像素点和所述待处理像素点进行处理,得到处理后的像素点,具体包括:
采用高斯滤波函数按照距离所述第一像素点距离由大到小的顺序对所述待处理像素点以及第一像素点进行依次处理,并按照距离所述第一像素点距离由大到小的顺序依次降低高斯滤波的程度。
6.一种激光功率调节系统,其特征在于,所述系统包括:
模型获取模块,用于获取制造物体的三维立体模型;
切片模块,用于根据设定的高度阈值对所述三维立体模型进行切片,得到多个切片位图,所述切片位图包括多个像素点;
提取模块,用于提取所述切片位图的轮廓边界的第一像素点;
判断模块,用于判断所述切片位图内存在的第二像素点与所述第一像素点的距离是否在距离阈值范围内;
第一确定模块,与所述判断模块连接,用于当所述切片位图内存在的第二像素点与所述第一像素点的距离在距离阈值范围内时,确定该第二像素点为待处理像素点;
第二确定模块,与所述判断模块连接,用于当所述切片位图内存在的第二像素点与所述第一像素点的距离不在距离阈值范围内时,确定该第二像素点为未处理像素点;
处理模块,用于采用高斯滤波函数对所述第一像素点和所述待处理像素点进行处理,得到处理后的像素点;
灰度值获取模块,用于获取所述处理后的像素点的灰度值以及未处理像素点的灰度值;
调节模块,用于根据各所述灰度值调节扫描所述处理后的像素点以及未处理像素点时的激光功率。
7.根据权利要求6所述的系统,其特征在于,所述提取模块包括:
第一处理单元,用于对所述切片位图进行二值化处理,得到二值化图像;
获取单元,用于获取所述二值化图像中像素点的灰度值;
判断单元,判断各像素点相邻的全部像素点的灰度值是否均相同;
提取单元,用于当各像素点相邻的全部像素点的灰度值均相同时,提取所述像素点为第一像素点。
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