[发明专利]高稳定性除铯吸附剂的规模化制备方法及其产品与应用

摘要

本发明涉及高稳定性除铯吸附剂的规模化制备方法及其产品与应用。具体地，本发明涉及一种颗粒态无机氧化物或活性炭负载型过渡金属稳定的亚铁氰化物吸附剂，其包含：颗粒态的无机氧化物载体或者颗粒态的活性炭载体；包覆所述无机氧化物或活性炭载体的过渡金属稳定的亚铁氰化物层；以及包覆所述过渡金属稳定的亚铁氰化物层的高分子材料层。该吸附剂具有高压碎强度和低离子浸出率。本发明还涉及该吸附剂的制备方法及其在去除放射性同位素Cs离子和去除稳定性同位素Cs离子的应用，以及去除放射性同位素Rb离子和去除稳定性同位素Rb离子的应用。

主权项

1.一种颗粒态无机氧化物或活性炭负载型过渡金属稳定的亚铁氰化物吸附剂，其包含：颗粒态的无机氧化物载体，或者颗粒态的活性炭载体；包覆所述无机氧化物或活性炭载体的过渡金属稳定的亚铁氰化物层；以及包覆所述过渡金属稳定的亚铁氰化物层的高分子材料层。

2.如权利要求1所述的吸附剂，其中，所述高分子材料层包括海藻酸钠、壳聚糖、数均分子量介于2000‑6000之间的聚乙二醇、聚乙烯醇、蔗糖或其任意组合。

3.如权利要求1或2所述的吸附剂，其具有2‑100N/particle的压碎强度。

4.如权利要求1或2所述的吸附剂，其具有这样的离子浸出特性，以至于所述吸附剂在10的液固比下浸泡24小时后，所得浸渍液的浊度为10mg/L或更低。

5.如权利要求1或2所述的吸附剂，其具有这样的离子浸出特性，以至于所述吸附剂在10的液固比下浸泡24小时后，所得液体的电导率为15μs/cm或更低。

6.用于制备颗粒态无机氧化物或活性炭负载型过渡金属稳定的亚铁氰化物吸附剂的方法，包括：

1)提供初级吸附剂；

2)用去离子水洗涤步骤1)的初级吸附剂，直到洗涤液的电导率为25.0μs/cm或更低，且浊度为30mg/L或更低；

3)用高分子材料包覆经洗涤的初级吸附剂，优选在酸或碱的存在下，从而得到经包覆的初级吸附剂；以及

4)可选地，用去离子水洗涤步骤3)的经包覆的初级吸附剂，直到洗涤液的电导率为20.0μs/cm或更低，且浊度为20mg/L或更低，

从而得到所述颗粒态无机氧化物或者活性炭负载型过渡金属稳定的亚铁氰化物吸附剂。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，提供初级吸附剂的步骤包括，将颗粒态无机氧化物或者颗粒态活性炭载体浸渍在亚铁氰化物的水溶液中2‑48小时，从而得到负载有亚铁氰化物的前体A，然后将前体A与过渡金属盐的水溶液混合，并在100‑150℃的温度下反应2‑24小时。

8.根据权利要求6所述的方法，其中，提供初级吸附剂的步骤包括，将颗粒态无机氧化物或者颗粒态活性炭载体浸渍在过渡金属盐的水溶液中2‑48小时，从而得到负载有过渡金属盐的前体B，然后将前体B与亚铁氰化物的水溶液混合，并在100‑150℃的温度下反应2‑24小时。

9.一种由权利要求6‑8中任一项所述方法制备所得的颗粒状无机氧化物或者活性炭负载型金属离子稳定的亚铁氰化物吸附剂。

10.由权利要求1‑5中任意一项或者由权利要求9所述的颗粒状无机氧化物或颗粒活性炭负载型金属离子稳定的亚铁氰化物吸附剂用于吸附放射性同位素Cs离子或吸附稳定同位素Cs离子的用途，和/或用于吸附放射性同位素Rb离子或吸附稳定同位素Rb离子的用途。