[发明专利]射流单元在审
申请号: | 201780094755.4 | 申请日: | 2017-11-08 |
公开(公告)号: | CN111051563A | 公开(公告)日: | 2020-04-21 |
发明(设计)人: | 文一权;车守荣;闵润基;黃道元 | 申请(专利权)人: | 艾尔法普拉斯株式会社 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/22 |
代理公司: | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人: | 王达佐;洪欣 |
地址: | 韩国忠*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明的方面提供了用于蒸发薄膜形成材料的射流单元,所述射流单元包括:壳体,其具有内部空间;坩埚,其设置在所述内部空间中并且容纳所述薄膜形成材料;以及喷嘴,其设置在所述坩埚的顶部上,使得所述薄膜形成材料通过所述喷嘴排放至所述坩埚的外部,其中所述喷嘴包括向上减小的倾斜部,其形成为从所述喷嘴的下部的一端朝向所述坩埚的内部倾斜;第一向上增大的倾斜部,其形成为从所述向上减小的倾斜部的上端部分朝向所述坩埚的边缘倾斜;以及第二向上增大的倾斜部,其形成为在所述第一向上增大的倾斜部的上端部分处朝向所述坩埚的边缘倾斜。 | ||
搜索关键词: | 射流 单元 | ||
【主权项】:
暂无信息
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