[发明专利]用于离子束靶衬底的表面修饰的方法和系统在审
| 申请号： | 201780091389.7 | 申请日： | 2017-06-05 |
| 公开（公告）号： | CN110914922A | 公开（公告）日： | 2020-03-24 |
| 发明（设计）人： | 小·W·H·帕克;马克·兰伯特;约瑟夫·吉莱斯皮;诺亚·斯米克;T·逆濑 | 申请（专利权）人： | 中子医疗股份有限公司;小·W·H·帕克;马克·兰伯特;约瑟夫·吉莱斯皮;诺亚·斯米克;T·逆濑 |
| 主分类号： | G21K1/00 | 分类号： | G21K1/00;G21K5/04;A61N5/10 |
| 代理公司： | 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 | 代理人： | 王晖;刘锋 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了中子发生靶的设计和制造方法。在一些实施方式中，可以对靶衬底的表面进行修饰以形成一个或多个表面特征。在一些实施方式中，在靶衬底的表面上设置中子源层。在一些实施方式中，可将中子源层和靶衬底加热到高温以在中子源层和靶衬底之间形成结合。在一些实施方式中，对靶衬底的表面修饰可以减少靶的起泡和材料剥落。该靶可以用于硼中子俘获疗法。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 离子束 衬底 表面 修饰 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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