[发明专利]单晶提拉装置的清洁装置有效
| 申请号： | 201780085144.3 | 申请日： | 2017-02-02 |
| 公开（公告）号： | CN110382749B | 公开（公告）日： | 2021-10-01 |
| 发明（设计）人： | 冲田宪治 | 申请（专利权）人： | 胜高股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B15/32 | 分类号： | C30B15/32;C30B29/06 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 张泽洲;谭祐祥 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种对单晶提拉装置（1）内进行清洁的清洁装置（10），其具备能够插入至拉晶室（1a）内的主筒部（11）和配置在该主筒部的上部且对插通至主筒部内的提拉用的线材（W）进行清洁的线材清洁机构（13），主筒部具备沿轴向连接多个接筒部（11A）～接筒部（11D）并使得能够进行密闭连接的接续延伸机构，由此防止粉尘再次附着并效率良好地进行线材清洁。 | ||
| 搜索关键词： | 单晶提拉 装置 清洁 | ||
【主权项】：
1.一种单晶提拉装置的清洁装置，其是对通过下垂至密闭容器的拉晶室内的线材，从设置于拉晶室下方的坩埚内的半导体熔液提拉半导体单晶的单晶提拉装置内进行清洁的装置，其特征在于，所述单晶提拉装置的清洁装置具备能够插入至所述拉晶室内的主筒部和配置在该主筒部的上部且对插通至主筒部内的所述线材进行清洁的线材清洁机构，所述主筒部具备沿轴向连接多个接筒部并使得能够进行密闭连接的接续延伸机构。
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