[发明专利]使用干涉条纹增强对比度并发现焦点的透射照明成像有效
申请号: | 201780080905.6 | 申请日: | 2017-10-24 |
公开(公告)号: | CN110114654B | 公开(公告)日: | 2022-10-11 |
发明(设计)人: | 马修·陈 | 申请(专利权)人: | 分子装置有限公司 |
主分类号: | G01N15/14 | 分类号: | G01N15/14;G01N21/17 |
代理公司: | 北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112 | 代理人: | 张娜;李荣胜 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种用于使用干涉条纹来增强对比度和/或发现焦点的透射照明系统和方法。在示例性方法中,可以通过散射和混合样品上游的光的至少一部分来降低所述光的相干性。可以使用降低相干性的光照射所述样品。可以检测所述样品的图像,所述图像是随着降低相干性的光的至少一部分穿过由所述样品限定的平面产生的。在所述样品被充分散焦以在所述图像中形成干涉条纹的情况下,可以执行所述检测的步骤。所述降低光的相干性的步骤可以使所述干涉条纹减弱。 | ||
搜索关键词: | 使用 干涉 条纹 增强 对比度 发现 焦点 透射 照明 成像 | ||
【主权项】:
1.一种透射照明成像的方法,所述方法包括:通过散射和混合样品上游的光的至少一部分来降低所述光的相干性;使用降低相干性的光照射所述样品;以及检测所述样品的图像,所述图像是通过所述降低相干性的光的至少一部分穿过由所述样品限定的平面产生的;其中,在所述样品被充分散焦以在所述图像中形成干涉条纹的情况下,执行所述检测的步骤,以及其中,降低的步骤减小所述干涉条纹的强度。
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