[发明专利]量测传感器、光刻设备和用于制造器件的方法有效
| 申请号: | 201780078819.1 | 申请日: | 2017-11-15 |
| 公开(公告)号: | CN110088688B | 公开(公告)日: | 2021-08-31 |
| 发明(设计)人: | 塞巴斯蒂安努斯·阿德里安努斯·古德恩;N·潘迪;D·阿克布卢特;亚历山德罗·波洛;S·R·胡伊斯曼 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王益 |
| 地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | 披露了一种量测传感器系统,诸如一种位置传感器。所述系统包括:光学收集系统,所述光学收集系统配置成收集来自衬底上的量测标记的衍射或散射辐射,所收集的辐射包括至少一个参数敏感信号和非参数敏感的噪声信号;处理系统,所述处理系统能够操作以处理所收集的辐射;以及模块壳体。光导被提供用于将与所述噪声信号分离的至少一个参数敏感信号从所述处理系统引导到所述壳体外部的检测系统。检测器检测所分离的至少一个参数敏感信号。用于阻挡第零阶辐射的遮蔽件和/或缩小光学系统可以设置于所述光导与所述检测器之间。 | ||
| 搜索关键词: | 传感器 光刻 设备 用于 制造 器件 方法 | ||
【主权项】:
1.一种量测传感器系统,包括:光学收集系统,所述光学收集系统配置成收集来自衬底上的量测标记的衍射辐射或散射辐射,被收集的辐射包括至少一个参数敏感信号和至少一个噪声信号;处理系统,所述处理系统能够操作以处理所述被收集的辐射;模块壳体,所述模块壳体容纳所述处理系统;至少一个光导,所述至少一个光导用于将与所述至少一个噪声信号分离的所述至少一个参数敏感信号从所述处理系统引导到所述壳体外部的检测系统;以及至少一个检测器,所述至少一个检测器能够操作以检测分离的所述至少一个参数敏感信号。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASML荷兰有限公司,未经ASML荷兰有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780078819.1/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:用于图像分析的方法和设备
- 下一篇:用于图案保真度控制的方法与设备





