[发明专利]测量衬底的属性的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 201780077607.1 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN110088685B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | P·沃纳尔;M·范德沙尔;G·格泽拉;E·J·库普;V·E·卡拉多;曾思翰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;董典红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
一种测量衬底的属性的方法，衬底在其上形成有多个目标，该方法包括：使用光学测量系统测量多个目标中的N个目标，其中N是大于2的整数，并且所述N个目标中的每一个目标被测量W |
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| 搜索关键词： | 测量 衬底 属性 方法 检查 设备 光刻 系统 器件 制造 | ||
【主权项】：
1.一种测量衬底的属性的方法，所述衬底在其上形成有多个目标，所述方法包括：使用光学测量系统来测量所述多个目标中的N个目标，其中N是大于2的整数，并且所述N个目标中的每一个目标被测量Wt次，其中Wt是大于2的整数，以便获得N*Wt个测量值；以及使用Q个方程和N*Wt个测量值来确定R个属性值，其中R<Q≤N*Wt；其中所述光学测量系统具有至少一个可变设置，并且对于所述N个目标中的每一个目标，使用至少一个可变设置中的不同设置值来获得测量值。
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