[发明专利]测量衬底的属性的方法、检查设备、光刻系统和器件制造方法有效
| 申请号： | 201780077607.1 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN110088685B | 公开（公告）日： | 2022-03-08 |
| 发明（设计）人： | P·沃纳尔;M·范德沙尔;G·格泽拉;E·J·库普;V·E·卡拉多;曾思翰 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;董典红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 测量 衬底 属性 方法 检查 设备 光刻 系统 器件 制造 | ||
1.一种测量衬底的属性的方法，所述衬底在其上形成有多个目标，所述方法包括：
使用光学测量系统来测量所述多个目标中的N个目标，其中N是大于2的整数，并且所述N个目标中的每一个目标被测量Wt次，其中Wt是大于2的整数，以便获得N*Wt个测量值；以及
使用Q个方程和N*Wt个测量值来确定R个属性值，其中RQN*Wt；
其中所述光学测量系统具有至少一个可变设置，并且对于所述N个目标中的每一个目标，使用至少一个可变设置中的不同设置值来获得测量值。
2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述Q个方程是联立方程。
3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，跨所有N个目标使用的所述可变设置中的不同设置值的总数Wm大于Wt。
4.根据权利要求1、2或3的方法，其中，所述光学测量系统是散射仪。
5.根据权利要求3所述的方法，其中，所述可变设置是所述光学测量系统的照射光束的波长、带宽、孔径形状和/或偏振。
6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述属性是在所述衬底上形成的两个图案层之间的套刻。
7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述目标包括光栅。
8.根据权利要求7所述的方法，其中，所述目标包括具有不同偏置、取向和/或间距的多个光栅。
9.根据前述权利要求中任一项所述的方法，还包括：在每次测量时测量所述光学测量系统的照射光束的波长和/或带宽，并且其中每个方程包括取决于波长和/或带宽的至少一项。
10.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述方程包括与以下至少一项相关的项：目标光栅不对称性；底部光栅不对称性；光栅不对称性的波长灵敏度；底部光栅不对称性的波长灵敏度；传感器不对称性，照射均匀性。
11.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，求解Q个方程包括：获得所述N个目标中的每一个目标的位置处的属性值。
12.一种器件制造方法，包括：
在衬底上形成第一器件层，所述第一器件层包括多个目标；
使用光学测量系统来测量所述多个目标中的N个目标，其中N是大于2的整数，并且所述N个目标中的每一个目标被测量Wt次，其中Wt是大于2的整数，以便获得N*Wt个测量值；以及
使用Q个方程和N*Wt个测量值来确定R个属性值，其中RQN*Wt；
关于另一个工艺步骤做出决定；
其中，所述光学测量系统具有至少一个可变设置，并且对于所述N个目标中的每一个目标，使用至少一个可变设置中的不同设置值来获得测量值；以及
所述做出决定是基于所述R个属性值进行的。
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