[发明专利]包括两个窗口、光学元件和XY-偏转装置的偏转单元有效
| 申请号： | 201780075416.1 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN110062678B | 公开（公告）日： | 2021-10-08 |
| 发明（设计）人： | 卡尔·贝尔默;沃尔夫冈·莱曼;克里斯蒂安·席芬;菲利普·舍恩 | 申请（专利权）人： | 瑞莱斯有限公司 |
| 主分类号： | G02B15/16 | 分类号： | G02B15/16 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;王艳春 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及偏转单元(10)，其包括光学元件(20)，光学元件(20)至少部分地反射第一波长且至少部分地透射不同的第二波长。偏转单元限定操作光束(14)经由光学元件(20)处的反射从第一窗口(12)到第二窗口(24)所经过的操作光束路径。偏转单元包括XY偏转装置(22)和聚焦装置(16)，其中XY偏转装置(22)布置在操作光束路径中以扫描已经出现的操作光束；聚焦装置(16)用于聚焦操作光束(14)，其中，聚焦装置具有可变焦距，并且布置在第一窗口(12)和光学元件(20)之间的操作光束路径中。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 两个 窗口 光学 元件 xy 偏转 装置 单元 | ||
【主权项】：
1.偏转单元(10、110、210)，包括：‑第一窗口(12)，光学操作光束(14)能够通过所述第一窗口(12)进入所述偏转单元，‑第二窗口(24)，所述操作光束能够通过所述第二窗口(24)从所述偏转单元离开，并且检测光束(32)能够沿着新出现的操作光束(14)的相应轨迹并在与所述操作光束(14)相反的方向从操作区域(34)通过所述第二窗口(24)进入所述偏转单元，‑光学元件(20)，至少部分地反射第一波长，其中，所述偏转单元：‑限定所述操作光束(14)经由所述光学元件(20)处的反射从所述第一窗口(12)到所述第二窗口(24)所经过的操作光束路径，以及其中，所述偏转单元还包括：‑XY偏转装置(22)，布置在所述第二窗口(24)和所述光学元件(20)之间的操作光束路径中，以偏转所述操作光束(14)，并扫描已经出现的操作光束，以及‑聚焦装置(16)，用于聚焦所述操作光束(14)，其中，所述聚焦装置具有可变焦距，并且布置在所述第一窗口(12)和所述光学元件(20)之间的操作光束路径中。
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