[发明专利]用于分配待分配介质的两个接近的射流的喷嘴装置有效
| 申请号： | 201780074078.X | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN110022988B | 公开（公告）日： | 2022-02-22 |
| 发明（设计）人： | B·克拉夫特;D·诺亚克 | 申请（专利权）人： | 杜尔系统股份公司 |
| 主分类号： | B05C5/02 | 分类号： | B05C5/02;B05B1/04;B05B1/14;B05B7/08 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周家新 |
| 地址： | 德国比梯海*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种喷嘴装置(1)，用于将待分配的介质分配到部件(1)上，优选地用于将待分配的介质分配到部件(100)的接头、边缘或过渡接缝的两个侧面(101，102)上和优选端面(103)上。喷嘴装置(1)包括用于分配待分配的介质的开口配置，且尤其特征在于，该开口配置包括至少两个开口(2.1，2.2)，用于发射待分配的介质的至少两个射流(S1，S2)，且所述至少两个开口(2.1，2.2)向内定向，使得所述至少两个射流(S1，S2)朝着分配侧(A)彼此接近。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 分配 介质 两个 接近 射流 喷嘴 装置 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴装置(1)，用于将发射介质发射到部件(100)上，优选用于将发射介质发射到部件(100)的折叠部、边缘或过渡接头的两个侧面(101，102)上和优选端面(103)上，所述喷嘴装置(1)包括：用于发射发射介质的开口配置，其特征在于，所述开口配置包括至少两个开口(2.1，2.2)，用于发射发射介质的至少两个射流(S1，S2)，所述至少两个开口(2.1，2.2)向内定向，从而使所述至少两个射流(S1，S2)朝着发射侧(A)彼此接近。
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