[发明专利]具有凹形开口构造的喷嘴装置和用于分配粘性施涂介质的方法在审
| 申请号： | 201780074075.6 | 申请日： | 2017-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN110022985A | 公开（公告）日： | 2019-07-16 |
| 发明（设计）人： | B·克拉夫特;D·诺亚克 | 申请（专利权）人： | 杜尔系统股份公司 |
| 主分类号： | B05B1/04 | 分类号： | B05B1/04 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 周家新 |
| 地址： | 德国比梯海*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种喷嘴装置(1、10)，其用于将粘性施涂介质以至少一个射流(S1、S2)的形式分配至构件(100)上，优选用于将施涂介质围绕地施涂至构件(100)的褶皱、边缘或过渡接头上，其中，所述至少一个射流(S1、S2)限定出一射流宽度(B1、B2)。所述喷嘴装置(1、10)包括用于形成至少一个缝型开口(3.1、3.2)的开口构造(2)，以分配施涂介质，其特征尤其在于，开口构造(2)形成为凹形，以便使射流宽度(B1、B2)朝向分配侧(A)变窄。本发明还涉及相关的方法。 | ||
| 搜索关键词： | 施涂 射流 喷嘴装置 开口 分配 褶皱 凹形开口 过渡接头 凹形 变窄 优选 | ||
【主权项】：
1.一种喷嘴装置(1、10)，其用于将粘性施涂介质以至少一个射流(S1、S2)的形式分配至构件(100)上、优选用于将施涂介质围绕地施涂至构件(100)的褶皱、边缘或过渡接头上，所述至少一个射流(S1、S2)限定出一射流宽度(B1、B2)，所述喷嘴装置(1、10)包括：用于形成至少一个缝型开口(3.1、3.2)的开口构造(2)，以用于分配施涂介质，其特征在于，开口构造(2)形成为凹形，以便使射流宽度(B1、B2)朝向分配侧(A)变窄。
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