[发明专利]基于衍射的聚焦度量有效

专利信息
申请号: 201780063522.8 申请日: 2017-06-02
公开(公告)号: CN109844647B 公开(公告)日: 2022-06-10
发明(设计)人: V·莱温斯基 申请(专利权)人: 科磊股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03F7/00;G03F1/84
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 刘丽楠
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供能够通过覆盖测量工具实行敏感聚焦测量的基于衍射的聚焦目标单元、目标、及设计及测量方法。单元包括具有粗节距的周期性结构及以细节距布置的多个元件。所述粗节距是所述细节距的整数倍,其中所述细节距在一个设计规则节距与两个设计规则节距之间且小于测量分辨率,且所述粗节距大于所述测量分辨率。所述元件是不对称的以提供散射照明的+1衍射级及‑1衍射级中的不同振幅,且所述元件的子组具有大于可印刷性阈值的CD(临界尺寸),且其它元件具有小于所述可印刷性阈值的CD。
搜索关键词: 基于 衍射 聚焦 度量
【主权项】:
1.一种基于衍射的聚焦目标单元,其包括具有粗节距的周期性结构及以细节距布置的多个元件,其中所述粗节距是所述细节距的整数倍,其中所述细节距在一个设计规则节距与两个设计规则节距之间且小于测量分辨率,且所述粗节距大于所述测量分辨率,其中所述元件是不对称的以提供散射照明的+1衍射级及‑1衍射级中的不同振幅,且其中所述元件的子组具有大于可印刷性阈值的临界尺寸CD,且其它元件具有小于所述可印刷性阈值的CD。
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