[发明专利]分层装置及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201780058680.4 申请日: 2017-09-26
公开(公告)号: CN109791988A 公开(公告)日: 2019-05-21
发明(设计)人: M·韦利迈基;T·里特沃宁 申请(专利权)人: 芬兰国家技术研究中心股份公司
主分类号: H01L51/44 分类号: H01L51/44;H01L51/52
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 胡利鸣;陈斌
地址: 芬兰埃*** 国省代码: 芬兰;FI
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种分层装置包括:基板(100),在基板(100)上并与基板(100)接触的第一导电层(102),与第一导电层(102)接触的第二图案化导电层(104),第三导电层(112),与第一导电层(102)、第二图案化导电层(104)和第三导电层(112)电绝缘的第四导电层(114),以及在第一导电层(102)和第四导电层(114)之间的操作性有源层(108)。第二图案化导电层(104)比操作性有源层(108)厚,并且第二图案化导电层(104)的顶部部分(104A)延伸跨越操作性有源层(108)以便具有与第三导电层(112)的电接触。
搜索关键词: 导电层 图案化导电层 第一导电层 基板 源层 分层装置 电接触 电绝缘 延伸 制造
【主权项】:
1.一种分层装置(150),所述分层装置(150)包括:基板(100),在所述基板(100)上并与所述基板(100)接触的第一导电层(102),与所述第一导电层(102)接触的第二图案化导电层(104),第三导电层(112),与所述第一导电层(102)、所述第二图案化导电层(104)和所述第三导电层(112)电绝缘的第四导电层(114),其特征在于,在所述第一导电层(102)和所述第四导电层(114)之间的操作性有源层结构(110A)包括至少一个非图案化层(106、108、110);以及所述第二图案化导电层(104)被配置成延伸跨越所述操作性有源层结构(110A)穿过操作性有源层结构(110A)的所述至少一个非图案化(106、108、110)层,以便具有与所述第三导电层(112)的电接触。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芬兰国家技术研究中心股份公司,未经芬兰国家技术研究中心股份公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780058680.4/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top