[发明专利]薄膜用支承框和薄膜及其制造方法在审
| 申请号： | 201780057884.6 | 申请日： | 2017-08-29 |
| 公开（公告）号： | CN109791351A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 石户伸幸 | 申请（专利权）人： | 日本轻金属株式会社 |
| 主分类号： | G03F1/64 | 分类号： | G03F1/64;G03F1/62 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种薄膜用支承框(1)及使用有该薄膜用支承框的薄膜(8)以及其有效的制造方法，所述薄膜用支承框兼备低扬尘性和高耐光性，并且即使将短波长激光用于曝光光源的情况下，也至不生成烟雾的程度将离子洗脱量降低至极限。本发明涉及一种薄膜用支承框，其特征在于，具有：由铝或铝合金构成的框架材料(2)、形成于该框架材料的表面的阳极氧化皮膜(4)、和形成于该阳极氧化皮膜的表面的氟树脂涂层(6)。 | ||
| 搜索关键词： | 薄膜 支承框 阳极氧化皮膜 框架材料 短波长激光 氟树脂涂层 高耐光性 离子洗脱 曝光光源 铝合金 扬尘 烟雾 制造 | ||
【主权项】：
1.一种薄膜用支承框，其特征在于，具有：由铝或铝合金构成的框架材料；和形成于所述框架材料的表面的氟树脂涂层。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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