[发明专利]用于制造光导元件的方法、光导元件、照明元件和用于车辆的操作元件在审
申请号: | 201780055550.5 | 申请日: | 2017-09-13 |
公开(公告)号: | CN109689914A | 公开(公告)日: | 2019-04-26 |
发明(设计)人: | 亚历山大·基里连科;约阿希姆·施普拉特 | 申请(专利权)人: | ZF腓德烈斯哈芬股份公司 |
主分类号: | C23C2/02 | 分类号: | C23C2/02;C25D7/00;C23C14/20;B60K35/00;F21V8/00;G02B6/12 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 潘小军;李骥 |
地址: | 德国腓德*** | 国省代码: | 德国;DE |
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摘要: | 本发明涉及一种用于制造光导元件(102)的方法。在此,通过对至少一个金属的散射体进行溅射而至少区段式地以透光的金属层(108)对光导本体(106)涂层。 | ||
搜索关键词: | 光导元件 操作元件 照明元件 金属层 区段式 散射体 透光 溅射 制造 金属 | ||
【主权项】:
1.用于制造光导元件(102)的方法(300),其中,在涂层的步骤(310)中通过对至少一个金属的散射体进行溅射而至少区段式地以透光的金属层(108)对光导本体(106)涂层。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C2-00 用熔融态覆层材料且不影响形状的热浸镀工艺;其所用的设备
C23C2-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域上镀覆
C23C2-04 .以覆层材料为特征的
C23C2-14 .过量熔融覆层的除去;覆层厚度的控制或调节
C23C2-26 .后处理
C23C2-30 .熔剂或融态槽液上的覆盖物