[发明专利]包含含有三芳基二胺的酚醛清漆树脂的抗蚀剂下层膜形成用组合物

摘要

本发明的课题是提供用于形成兼具耐热性、平坦化性、和耐蚀刻性的光刻工序所使用的抗蚀剂下层膜的材料。解决手段是一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：包含下述式(1)(在式(1)中，R1为包含至少2个胺和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的有机基，R2和R3分别为氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～40的芳基、杂环基、或它们的组合，并且，该烷基、该芳基、该杂环基可以被卤基、硝基、氨基、甲酰基、烷氧基、或羟基取代，或者R2和R3可以一起形成环)所示的单元结构的聚合物。上述组合物中，R1为由N,N’‑二苯基‑1,4‑苯二胺衍生的2价有机基。

主权项

1.一种抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包含：包含下述式(1)所示的单元结构的聚合物，在式(1)中，R¹为包含至少2个胺和至少3个碳原子数6～40的芳香族环的有机基，R²和R³分别为氢原子、碳原子数1～10的烷基、碳原子数6～40的芳基、杂环基、或它们的组合，并且，该烷基、该芳基、该杂环基可以被卤基、硝基、氨基、甲酰基、烷氧基、或羟基取代，或者R²和R³可以一起形成环。