[发明专利]用于对半导体材料的层进行退火的设备、对半导体材料的层进行退火的方法以及平板显示器

摘要

本发明提供了用于对半导体材料的层，特别是非晶硅或IGZO进行退火的方法和设备。在一种布置中，设备包括产生激光束的激光源。光束扫描装置以选择性地辐射半导体材料的层的多个区域的方式相对于半导体材料的层扫描激光束或由激光束产生的多个子光束并由此产生相应的多个退火的半导体材料的区域，特别是相应的多个多晶硅或退火的IGZO的区域。退火的半导体材料的区域中的每一个与其他退火的半导体材料的区域中的所有区域分隔开。

主权项

1.一种用于对半导体材料的层进行退火的设备，所述设备包括：激光源，所述激光源被配置成产生激光束；以及光束扫描装置，所述光束扫描装置被配置成以选择性地辐射所述半导体材料的层的多个区域的方式相对于所述半导体材料的层扫描所述激光束或从所述激光束产生的多个子光束，并由此通过退火产生相应的多个退火的半导体材料的区域，其中，所述退火的半导体材料的区域中的每一个与其他退火的半导体材料的区域中的所有区域分隔开。