[发明专利]对准方法有效

专利信息
申请号: 201780049623.X 申请日: 2017-08-14
公开(公告)号: CN109643071B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: F·G·C·比杰南;S·G·J·马斯杰森;E·M·休瑟博斯;V·德梅吉斯 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司
主分类号: G03F9/00 分类号: G03F9/00
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 王茂华;郭星
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种确定对准标记(29)在衬底上的位置的方法,该对准标记(29)包括第一段(29a)和第二段(29b),该方法包括用辐射照射对准标记,检测由对准标记衍射的辐射并且生成作为结果的对准信号。对准信号包括仅在第一段照射期间接收的第一分量(光束轮廓35在左侧)、在仅第二段的照射期间接收的第二分量(光束轮廓35在右侧)、以及在这两个段的同时照射期间接收的第三分量(当光束通过29a和29b之间的边界时)。使用对准信号的第一分量、第二分量和第三分量确定段(29a,29b)的位置。
搜索关键词: 对准 方法
【主权项】:
1.一种确定对准标记在衬底上的位置的方法,所述对准标记包括第一段和第二段,所述方法包括:利用辐射照射所述对准标记,检测由所述对准标记衍射的辐射并且生成作为结果的对准信号,所述对准信号包括仅在所述第一段的照射期间被接收的第一分量、仅在所述第二段的照射期间被接收的第二分量、以及在两个段的同时照射期间被接收的第三分量;以及使用所述对准信号的所述第一分量、所述第二分量和所述第三分量确定所述段的位置。
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