[发明专利]对准方法有效
申请号: | 201780049623.X | 申请日: | 2017-08-14 |
公开(公告)号: | CN109643071B | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | F·G·C·比杰南;S·G·J·马斯杰森;E·M·休瑟博斯;V·德梅吉斯 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司;ASML控股股份有限公司 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 王茂华;郭星 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 对准 方法 | ||
1.一种确定对准标记在衬底上的位置的方法,所述对准标记包括第一段和第二段,所述方法包括:
利用辐射照射所述对准标记,检测由所述对准标记衍射的辐射并且生成作为结果的对准信号,所述对准信号包括仅在所述第一段的照射期间被接收的第一分量、仅在所述第二段的照射期间被接收的第二分量、以及在两个段的同时照射期间被接收的第三分量;
使用所述对准信号的所述第一分量、所述第二分量和所述第三分量确定所述第一段和所述第二段的位置;以及
其中所述确定包括对所述对准信号的所述第三分量进行去卷积。
2.根据权利要求1所述的方法,其中所述确定使用具有已知特性的校准标记上的校准测量的结果来产生校准对准信号,所述对准信号与所述第一段和所述第二段的位置之间的关系根据所述校准对准信号来确定。
3.根据权利要求2所述的方法,其中所述确定包括将所述校准对准信号拟合到所述对准信号。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述去卷积基于所述辐射的轮廓的大小和形状的知识以及所述第一分量和所述第二分量的知识。
5.根据权利要求2或3所述的方法,其中所述校准对准信号被用于对所述对准信号的所述第三分量进行去卷积。
6.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述确定进一步包含将所述对准信号分离成多个部分,并且分析每个部分以从所述对准信号中提取局部相位信息。
7.根据权利要求6所述的方法,其中分析所述对准信号的每个部分包括将一个或多个函数拟合到所述对准信号的每个部分。
8.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述确定包括对所述对准信号执行希尔伯特变换以产生复对准信号。
9.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述第一段包括具有在其分辨率特征的中心与其空间区域的中心之间的第一已知位置偏移分量的子分段光栅,并且所述第二段包括具有在其分辨率特征的中心与其空间区域的中心之间的第二已知位置偏移分量的子分段光栅,所述第一已知位置偏移分量与所述第二已知位置偏移分量不同。
10.根据权利要求1至3中任一项所述的方法,其中所述衬底包括第一目标部分和第二目标部分,并且其中所述第一段位于所述第一目标部分中并且所述第二段位于所述第二目标部分中,使得所述对准标记是级联的场内对准标记。
11.一种光刻设备,包括衬底台,用于保持衬底;
投影系统,用于将图案化辐射束投影到由所述衬底台保持的衬底的目标部分上;以及
对准系统,被配置为执行根据权利要求1至10中任一项所述的方法。
12.一种对准系统,包括辐射源、检测器和处理器,所述处理器被配置为:
从所述检测器接收对准信号,所述对准信号包括仅在第一对准标记段的照射期间被接收的第一分量、仅在第二对准标记段的照射期间被接收的第二分量、以及在两个对准标记段的同时照射期间被接收的第三分量;
使用所述对准信号的所述第一分量、所述第二分量和所述第三分量确定所述对准标记段的位置;以及
其中所述确定包括对所述对准信号的所述第三分量进行去卷积。
13.一种处理器,被配置为:
接收对准信号,所述对准信号包括仅在第一对准标记段的照射期间被接收的第一分量、仅在第二对准标记段的照射期间被接收的第二分量、以及在所述两个对准标记段的同时照射期间被接收的第三分量;
使用所述对准信号的所述第一分量、所述第二分量和所述第三分量确定所述对准标记段的位置;以及
其中所述确定包括对所述对准信号的所述第三分量进行去卷积。
14.一种计算机可读介质,其中可读代码被存储在所述计算机可读介质上,所述代码引起根据权利要求1至10中任一项所述的方法的使用。
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