[发明专利]层状构造的通过流体控制温度的气体分配器有效
申请号: | 201780049005.5 | 申请日: | 2017-05-08 |
公开(公告)号: | CN109790620B | 公开(公告)日: | 2020-03-03 |
发明(设计)人: | R·皮奇;E·安佐格;U·沙伊特;C·弗伦德尔 | 申请(专利权)人: | 迈尔博尔格(德国)有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 | 代理人: | 俞海舟 |
地址: | 德国霍恩施泰*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种用于导入和分配至少一种气体到加工区中的气体分配器和一种用于制造该气体分配器的方法。气体分配器包括底板、温度控制板和顶板,它们通过连接方法气密地彼此连接。温度控制板具有温度控制通道,所述温度控制通道构造为通过腹板彼此分开的通孔并且从温度控制板的第一侧延伸到温度控制板的第二侧。在温度控制板的腹板中形成贯通的腹板孔,其对应于底板中的气体出口和顶板中的气体入口,并形成气体通道。在顶板中,温度控制流体分配器和温度控制流体收集器被构成为穿过顶板的通孔。因此,温度控制流体可以从布置在顶板上的温度控制流体供应接头通过温度控制流体分配器流入温度控制通道并且通过温度控制流体收集器流入到在顶板上设置的温度控制流体出口接头。根据该方法,首先在温度控制板上形成温度控制通道,在顶板上形成温度控制流体分配器和温度控制流体收集器,并且将底板、温度控制板和顶板气密地彼此连接。然后在一个共同的工艺步骤中生产气体通道。 | ||
搜索关键词: | 层状 构造 通过 流体 控制 温度 气体 分配器 | ||
【主权项】:
1.一种气体分配器,其包括底板、温度控制板、顶板、至少一个温度控制流体供应附件和至少一个温度控制流体出口附件,其中底板、温度控制板和顶板具有同一轮廓,温度控制板设置在底板和顶板之间并且这些板的边缘叠置地终止,相叠的各板通过连接方法气密地彼此连接,底板具有完全穿过底板的气体出口,温度控制板具有温度控制通道,这些温度控制通道构造为通过腹板彼此分开的通孔,其中温度控制通道具有位于温度控制板的第一侧上的第一端和位于温度控制板的第二侧上的第二端、然而不完全延伸至相应的侧,其中第二侧与第一侧相对置,在温度控制板的腹板中形成贯通的腹板孔,这些腹板孔与底板的气体出口相对应,顶板具有气体入口,这些气体入口完全穿过底板并且与温度控制板的腹板孔的至少一部分相对应,顶板包括至少一个温度控制流体分配器以及至少一个温度控制流体收集器,所述温度控制流体分配器构成为顶板中的通孔并且覆盖与其对应的所有温度控制通道的第一端,所述温度控制流体收集器构成为顶板中的通孔并且覆盖与其对应的所有温度控制通道的第二端,具有温度控制流体供应接头的所述至少一个温度控制流体供应附件与顶板气密地连接,并且因此布置在与其对应的温度控制流体分配器上方,使得该温度控制流体供应附件完全覆盖该温度控制流体分配器,并且温度控制流体能够从温度控制流体供应接头通过温度控制流体分配器流入温度控制通道的第一端中,并且具有温度控制流体出口接头的所述至少一个温度控制流体出口附件与顶板气密地连接,并且因此布置在与其对应的温度控制流体收集器上方,使得该温度控制流体出口附件完全覆盖该温度控制流体收集器,并且温度控制流体能够从温度控制通道的第二端通过温度控制流体收集器流入到温度控制流体出口接头中。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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