[发明专利]标志器在审

专利信息
申请号: 201780048350.7 申请日: 2017-07-13
公开(公告)号: CN109642790A 公开(公告)日: 2019-04-16
发明(设计)人: 福田康幸;川本裕太;齐藤共启 申请(专利权)人: 恩普乐股份有限公司
主分类号: G01B11/26 分类号: G01B11/26;G01B11/00
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 杜立健
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明的标志器(100)具有沿着X方向配置的多个凸面部(112)、和与之对应地配置的多个被检测部(120)。在凸面部(112)的突出方向上,任意一个被检测部(120)都位于一个平面上,该一个平面位于比X方向上的第1个光学单元的凸面部(112)的像面(F)中的焦点(F1)更靠凸面部(112)侧的位置,且位于比像面(F)的端部更靠上述突出方向相反侧的位置。像面(F)在X方向上从第1个光学单元延伸至第n个所述光学单元。其中,n为2以上。
搜索关键词: 凸面部 光学单元 像面 被检测部 突出方向 标志器 方向配置 配置的 相反侧 焦点 延伸
【主权项】:
1.一种标志器,具有透光性并且由至少沿着一个排列方向配置的多个光学单元构成,该标志器中,所述光学单元包括:凸面部;以及被检测部,该被检测部与所述凸面部对应地配置于向所述凸面部的突出方向相反侧远离的位置,且作为可光学检测的像投影于所述凸面部,在所述突出方向上,任意一个所述被检测部都位于一个平面上,该一个平面位于比所述排列方向上的任意的第1个所述光学单元的所述凸面部的像面中的焦点更靠所述凸面部侧的位置,且位于比所述像面的端部更靠所述突出方向相反侧的位置,所述像面在所述排列方向上从所述第1个光学单元延伸至所述第n个所述光学单元,其中,n为2以上。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于恩普乐股份有限公司,未经恩普乐股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201780048350.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top