[发明专利]真空处理系统和用于真空处理一个或多个基板的方法在审
| 申请号： | 201780043570.0 | 申请日： | 2017-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN109819663A | 公开（公告）日： | 2019-05-28 |
| 发明（设计）人： | 史蒂文·波普;拉尔夫·林登伯格 | 申请（专利权）人： | 应用材料公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国;赵静 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种用于沿着基板运输方向真空处理一个或多个基板的真空处理系统，所述真空处理系统包括第一基板搬运腔室；分隔件，所述分隔件将所述第一基板搬运腔室划分成包括第一轨道的第一子腔室和包括第二轨道的第二子腔室，所述第二子腔室相对于所述基板运输方向布置在所述第一子腔室的下游；其中所述分隔件在所述第一基板搬运腔室的整个长度上延伸；进一步包括第二基板搬运腔室，所述第二基板搬运腔室相对于所述基板运输方向布置在所述第一子腔室的下游和所述第二子腔室的上游。一种用于操作该真空处理系统来真空处理一个或多个基板的方法，所述方法包括在所述第一子腔室中使所述一个或多个基板脱气，在所述第二基板搬运腔室中运输所述一个或多个基板，在所述第二子腔室中处理所述一个或多个基板。 | ||
| 搜索关键词： | 子腔室 多个基板 腔室 搬运 真空处理系统 第二基板 第一基板 基板运输 真空处理 分隔件 轨道 脱气 上游 延伸 运输 | ||
【主权项】：
1.一种用于沿着基板运输方向(D)真空处理一个或多个基板的真空处理系统(100,200,300)，包括：第一基板搬运腔室(101,201)；分隔件(W)，所述分隔件(W)将所述第一基板搬运腔室(101,201)划分成以下各者：包括第一轨道(101A1,201A1)的第一子腔室(101A,201A)；和包括第二轨道(101B1,201B1)的第二子腔室(101B,201B)，所述第二子腔室(101B,201B)相对于所述基板运输方向(D)布置在所述第一子腔室(101A,201A)的下游；其中所述分隔件(W)在所述第一基板搬运腔室(101,201)的整个长度上延伸；第二基板搬运腔室(102,202)，所述第二基板搬运腔室相对于所述基板运输方向(D)布置在所述第一子腔室(101A,201A)的下游并相对于所述基板运输方向(D)布置在所述第二子腔室(101B,201B)的上游。
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