[发明专利]真空处理系统和用于真空处理一个或多个基板的方法

说明书

一种用于沿着基板运输方向真空处理一个或多个基板的真空处理系统，所述真空处理系统包括第一基板搬运腔室；分隔件，所述分隔件将所述第一基板搬运腔室划分成包括第一轨道的第一子腔室和包括第二轨道的第二子腔室，所述第二子腔室相对于所述基板运输方向布置在所述第一子腔室的下游；其中所述分隔件在所述第一基板搬运腔室的整个长度上延伸；进一步包括第二基板搬运腔室，所述第二基板搬运腔室相对于所述基板运输方向布置在所述第一子腔室的下游和所述第二子腔室的上游。一种用于操作该真空处理系统来真空处理一个或多个基板的方法，所述方法包括在所述第一子腔室中使所述一个或多个基板脱气，在所述第二基板搬运腔室中运输所述一个或多个基板，在所述第二子腔室中处理所述一个或多个基板。

技术领域

本公开内容的实施方式涉及用于真空处理一个或多个基板的真空处理系统，以及用于操作该真空处理系统来真空处理一个或多个基板的方法。本公开内容的实施方式更特别地涉及真空涂覆系统以及用于操作该真空涂覆系统来真空涂覆一个或多个基板的方法。本公开内容的实施方式涉及真空涂覆系统以及用于一个或多个基板的真空涂覆的方法，例如，在显示器制造中，更特别地是在OLED显示器制造中。

背景技术

用于在基板上的层沉积的技术包括例如溅射沉积、热沉积和化学气相沉积。溅射沉积工艺可用以将材料层沉积在基板上，诸如导电材料或者绝缘材料的层。经涂覆的材料可以用于若干应用中并且用于若干技术领域中。例如，一种应用是在微电子的领域中，诸如用于产生半导体装置。另外，用于显示器的基板经常通过物理气相沉积，例如溅射沉积工艺，或化学气相沉积(CVD)进行涂覆。另外应用包括绝缘面板、具有TFT的基板、滤色器等等。

为了改善沉积在基板上的层的质量，例如纯度和/或同质性，基板应该满足关于其纯度水平的高要求。

鉴于上文，克服了本领域中至少一些问题的系统和方法是有益的。本公开内容特别旨在提供用于真空处理一个或多个基板的系统和方法，特别是提供克服了本领域中至少一些问题的用于涂覆一个或多个基板的系统和方法。

发明内容

鉴于上文，提供一种用于真空处理一个或多个基板的真空处理系统，一种操作用于真空处理一个或多个基板的此真空处理系统的方法，一种真空涂覆系统以及用于在此真空涂覆系统中涂覆一个或多个基板的方法。本公开内容的其他方面、优势和特征自权利要求、描述和附图显而易见。

根据本公开内容的一方面，提供一种用于沿着基板运输方向真空处理一个或多个基板的真空处理系统。此真空处理系统包括第一基板搬运腔室和将第一基板搬运腔室划分成第一子腔室和第二子腔室的分隔件。第一子腔室包括第一轨道并且经构造以用于传送和/或处理一个或多个基板。第二子腔室包括第二轨道并且经构造以用于传送和/或处理一个或多个基板。另外，第二子腔室相对于基板运输方向布置在第一子腔室的下游。另外，分隔件在第一基板搬运腔室的整个长度上延伸。真空处理系统进一步包括第二基板搬运腔室。第二基板搬运腔室经过布置而相对于基板运输方向在第一子腔室的下游并且相对于基板运输方向在第二子腔室的上游。

根据本公开内容的另一方面，在本文中描述根据实施方式的真空处理系统。特别地，第二基板搬运腔室包括用于将一个或多个基板从第一轨道运输到第二轨道的切换轨道模块。

根据本发明的另一方面，提供一种用于沿着基板运输方向真空处理一个或多个基板的真空处理系统。此真空处理系统包括第一基板搬运腔室和将第一基板搬运腔室划分成第一子腔室和第二子腔室的分隔件。第一子腔室包括第一轨道。第二子腔室包括第二轨道。另外，第二子腔室相对于基板运输方向布置在第一子腔室的下游。另外，分隔件在第一基板搬运腔室的整个长度上延伸。真空处理系统进一步包括第二基板搬运腔室。第二基板搬运腔室经过布置而相对于基板运输方向在第一子腔室的下游并且相对于基板运输方向在第二子腔室的上游。