[发明专利]保持装置、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法有效
| 申请号： | 201780041316.7 | 申请日： | 2017-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN109416515B | 公开（公告）日： | 2021-03-30 |
| 发明（设计）人： | 春见和之 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B5/10;G02B7/185 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 孙蕾 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供一种对减少具有曲面的光学元件的自重变形的影响有利的保持装置。保持装置(110)以使具有曲面的光学元件(M)的光轴方向变为水平方向的方式来保持该光学元件(M)，具有支承光学元件(M)的支承部件(112)，在包含光学元件(M)的光轴方向和重力方向的平面内，支承部件(112)将支承部件(112)支承光学元件(M)的部分相对于光轴方向倾斜地支承。 | ||
| 搜索关键词： | 保持 装置 投影 光学系统 曝光 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种保持装置，以使具有曲面的光学元件的光轴方向变为水平方向的方式来保持所述光学元件，所述保持装置的特征在于，具有支承所述光学元件的支承部件，在包含所述光轴方向和重力方向的平面内，所述支承部件将所述支承部件支承所述光学元件的部分相对于所述光轴方向倾斜地支承。
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