[发明专利]保持装置、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法

说明书

提供一种对减少具有曲面的光学元件的自重变形的影响有利的保持装置。保持装置(110)以使具有曲面的光学元件(M)的光轴方向变为水平方向的方式来保持该光学元件(M)，具有支承光学元件(M)的支承部件(112)，在包含光学元件(M)的光轴方向和重力方向的平面内，支承部件(112)将支承部件(112)支承光学元件(M)的部分相对于光轴方向倾斜地支承。

技术领域

本发明涉及保持装置、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。

背景技术

已知在光路的中途配置可变形镜来进行像差校正的光学系统。在天文学领域中，在观察星体时，为了抑制由大气的扰动导致的像的分辨率的下降，存在高速地测量波阵面并利用可变形镜进行校正的技术。另外，在半导体的制造所用的投影曝光装置中，为了应对由曝光时的温度变化导致的像差的劣化，存在对光学系统所使用的镜采用可变形镜来校正像差的技术。

可变形镜使用薄到容易变形的镜(例如约5mm)，但是由于其薄度而可能因自重导致变形。作为想要消除自重变形的光学元件的制造方法，存在一种将光学元件保持为与实际使用状态基本相同的状态，测量表面形状并决定加工量，基于所决定的加工量将被加工面修正加工的方法(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-84795号公报

发明内容

发明所要解决的问题

然而，在为了消除自重变形而利用上述专利文献1的方法来加工可变形镜的情况下，由于加工量可能变大，所以在加工时间、成本方面可能变得不利。另外，通常由多个支承部件(致动器等)在多个点支承可变形镜。而且，在加工时，将可变形镜从支承部件拆下，而在测量表面形状时，将可变形镜安装于支承部件。在重复加工和测量的情况下，在作业时间和成本方面可能变得不利。

本发明的目的在于提供一种例如对减少具有曲面的光学元件的自重变形的影响有利的保持装置。

用于解决问题的方案

为了解决上述问题，本发明的保持装置以使具有曲面的光学元件的光轴方向变为水平方向的方式来保持光学元件，特征在于，具有支承光学元件的支承部件，在包含光学元件的光轴方向和重力方向的平面内，支承部件将支承部件支承光学元件的部分相对于光轴方向倾斜地支承。

发明效果

根据本发明，能够提供一种例如对减少具有曲面的光学元件的自重变形的影响有利的保持装置。

附图说明

图1为示出第一实施方式的包括保持装置的曝光装置的结构的示意图。

图2为示出支承部件对凹面镜的保持状态的图。

图3为示出致动器的位置和以等高线示出与凹面镜的期望的反射面形状的偏差量的图。

图4为示出进行通常的曝光的情况下的投影区域的图。

(附图标记说明)

100：曝光装置；110：保持装置；112：支承部件；113：致动器；M：镜(光学元件)

具体实施方式

以下，参照附图等对用于实施本发明的方式进行说明。

第一实施方式

图1为示出本发明的第一实施方式的包括保持装置的曝光装置的结构的示意图。曝光装置100可以用于例如液晶显示设备、有机EL设备等的平板面板的制造工序中的光刻工序。尤其在本实施方式中，设曝光装置100为扫描型投影曝光装置，该扫描型投影曝光装置利用步进扫描方式，将形成在未图示的掩模原版(掩模)上的图案像转印(曝光)至未图示的基板上。