[发明专利]流体装置及其制造方法

摘要

一种实例方法包括提供工作堆栈，该工作堆栈具有第一基板层、第二基板层及安置于该第一基板层与该第二基板层之间的辐射吸收材料。该工作堆栈在其中包括具有指定液体的空腔。结合界面界定于该辐射吸收材料与该第一基板层或该第二基板层中的至少一者之间。该结合界面具有该指定液体的膜。该方法亦包括将辐射引导至该结合界面上以形成周边密封部。该周边密封部分离该空腔与该结合界面的外部区域。该方法亦包括将该辐射引导至该结合界面的该外部区域上以将该第一基板层及该第二基板层紧固在一起。该周边密封部在当该辐射被引导至该外部区域上时阻止气泡自该外部区域进入至该空腔中。

主权项

1.一种方法，其包含：提供工作堆栈，所述工作堆栈具有第一基板层、第二基板层及安置于所述第一基板层与所述第二基板层之间的辐射吸收材料，所述工作堆栈包括空腔，在所述空腔中具有指定液体，其中结合界面被界定于所述辐射吸收材料与所述第一基板层或所述第二基板层中的至少一者之间，所述结合界面具有所述指定液体的膜；沿预定路径将辐射引导至所述结合界面上以形成周边密封部，所述周边密封部经定位以分离所述空腔与所述结合界面的外部区域；及将所述辐射引导至所述结合界面的所述外部区域上以将所述第一基板层及所述第二基板层紧固在一起，所述周边密封部在当所述辐射被引导至所述外部区域上时阻止气泡自所述外部区域进入至所述空腔中。