[发明专利]溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201780035628.7 | 申请日： | 2017-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN109312449B | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 守井泰士;小井土由将 | 申请（专利权）人： | JX金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C22C21/00;C22C28/00;C22F1/04;C22F1/16;C22F1/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 吕琳;朴秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明的溅射靶包含Al和Sc的合金、且以25原子％～50原子％含有Sc，其中氧含量为2000质量ppm以下、维氏硬度Hv的偏差为20％以下。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其特征在于，包含Al和Sc的合金，且含有25原子％～50原子％的Sc，氧含量为2000质量ppm以下，维氏硬度Hv的偏差为20％以下。
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