[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备有效
| 申请号： | 201780027338.8 | 申请日： | 2017-03-01 |
| 公开（公告）号： | CN109073997B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | A·J·范李斯特;A·蔡亚马斯;P·C·欣南;E·G·麦克纳马拉;A·弗玛;T·希尤维斯;H·A·J·克拉默 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;董典红 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种确定图案化工艺的套刻的方法，该方法包括：用辐射光束照射衬底，使得所述衬底上的光束斑点被单位单元的一个或多个物理实例填充，所述单位单元在套刻的标称值下具有几何对称性；使用检测器检测由所述单位单元的所述一个或多个物理实例重定向的主要零阶辐射；以及由硬件计算机系统从检测到的辐射的光学特性值确定所述单位单元的套刻的非标称值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 图案 化工 参数 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种确定图案化工艺的套刻的方法，所述方法包括：用辐射光束照射衬底，使得所述衬底上的光束斑点被单位单元的一个或多个物理实例填充，所述单位单元在套刻的标称值下具有几何对称性；使用检测器主要检测由所述单位单元的所述一个或多个物理实例重定向的零阶辐射；以及由硬件计算机系统从检测到的辐射的光学特性值确定所述单位单元的套刻的非标称值。
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