[发明专利]用于确定图案化工艺的参数的方法和设备

权利要求书

1.一种确定图案化工艺的套刻的方法，所述方法包括：

从由衬底的单位单元的一个或多个物理实例重定向的照射辐射，主要获取由光学测量设备检测到的零阶辐射信号，所述衬底使用照射辐射的光束照射，使得在所述衬底上的光束斑点被填充有所述单位单元的所述一个或多个物理实例，所述单位单元在套刻的标称值下具有几何对称性；以及

由硬件计算机系统从检测到的辐射的光学特性值确定所述单位单元的套刻的非标称值，所述确定包括：与来自所述检测到的辐射中的、与对套刻的低灵敏度相关的其他像素的光学特性值相比，给来自所述检测到的辐射中的、与对套刻的高灵敏度相关的像素的光学特性值分配不同的加权。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学特性值形成光瞳表示，所述光瞳表示在所述光学测量设备的光瞳中或所述光学测量设备的光瞳处测得。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，处理所述光学特性值，以便减少或消除所述检测到的辐射的对称光学特性分布的光学特性值。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学特性是强度和/或相位。

5.根据权利要求1所述的方法，其中，所述单位单元的一个或多个物理实例是器件结构。

6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述单位单元的所述一个或多个物理实例是包括器件结构的衬底裸片内的非器件结构。

7.根据权利要求1所述的方法，还包括：根据所述光学特性值、与第二套刻相分离地确定第一套刻的值，所述第二套刻的值也从相同的光学特性值可获得，其中所述第一套刻在与所述第二套刻不同的非平行方向上或在与所述第二套刻不同的、所述单位单元的各部分的组合之间。

8.一种确定图案化工艺的参数的方法，所述方法包括：

获得由在标称物理配置下具有几何对称性的结构重定向的辐射的表示，所述表示由光学测量机器相对于所述光学测量机器的光瞳来检测，其中通过使用辐射光束照射衬底以使得在所述衬底上的光束斑点被填充有所述结构，来获得所述辐射的所述检测到的表示，并且所述辐射的所述检测到的表示包括对称光学特性分布部分和不对称光学特性分布部分；以及

由硬件计算机系统，基于来自检测到的辐射表示的所述不对称光学特性分布部分的光学特性值，来确定所述图案化工艺参数的值，与所述检测到的辐射表示中的另一部分的权重相比，所述不对称光学特性分布部分具有更高的权重，所述不对称光学特性分布部分由所述结构的与所述标称物理配置不同的物理配置所引起。

9.根据权利要求8所述的方法，其中，所述图案化工艺参数是套刻，并且不同的物理配置是所述结构的至少一部分相对于所述结构的另一部分的偏移。

10.根据权利要求8所述的方法，其中，所述检测到的辐射是主要是零阶辐射。

11.根据权利要求8所述的方法，其中，处理所述检测到的辐射表示，以减去跨越对称轴的光学特性值，以便减少或消除所述检测到的辐射表示的所述对称光学特性分布部分的光学特性值。

12.根据权利要求8所述的方法，其中，使用针对所述检测到的辐射表示的多个像素的光学特性值的求和来确定所述图案化工艺参数的值，其中针对每个像素的光学特性值被乘以针对该像素的相关联的加权。

13.根据权利要求8所述的方法，其中，所述光学特性是强度和/或相位。

14.根据权利要求8所述的方法，其中，所述结构是器件结构。

15.根据权利要求8所述的方法，其中，所述结构是包括器件结构的衬底裸片内的非器件结构。