[发明专利]在气体吸附下的关键尺寸测量

摘要

本文提出用于通过气体吸附过程来执行由吸附物填充的几何结构的光学测量的方法及系统。当使用包含经控制量的填充材料的净化气体的流动来处理被测量计量目标时，执行测量。所述填充材料的一部分吸附到被测量结构上，且填充结构特征中的开口、结构特征之间的空间、小体积(例如，凹口、沟槽、狭缝、接触孔等)。在一个方面中，基于待填充的最大特征大小来确定所述气体流动中的汽化材料的所要饱和度。在一个方面中，当结构是未填充的及当通过气体吸附来填充所述结构时，收集测量数据。使所述经收集数据组合于基于多目标模型的测量中，以减小参数相关性且改进测量性能。

主权项

1.一种测量系统，其包括：照明源，其经配置以在第一吸附状态处提供第一量的照明光到安置于晶片上的一或多个计量目标；蒸汽注入系统，其经配置以在所述一或多个计量目标的所述照明期间提供包含呈蒸汽相的填充材料的气体流动到所述一或多个计量目标，其中使所述填充材料的一部分呈液相而吸附到所述一或多个计量目标上，且其中填充材料的所述部分在所述第一吸附状态处填充所述一或多个计量目标的一或多个几何、结构特征之间的空间的至少一部分；检测器，其经配置以响应于所述第一量的照明光而从所述一或多个计量目标接收第一量的经收集光，且产生指示所述第一量的经收集光的第一测量信号集；及计算系统，其经配置以：接收与所述一或多个计量目标的第一测量相关联的所述第一测量信号集。