[发明专利]具有分离式电极的等离子体反应器在审
| 申请号： | 201780025735.1 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN109072421A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 金东秀;朱敏秀 | 申请（专利权）人： | 雷特罗萨米科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23F1/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;王艳春 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种等离子体反应器，用于产生在诸如太阳能电池制造中的大面积晶片上沉积薄膜中使用的等离子体。等离子体反应器中的等离子体电极单元被划分成多个分立电极，并且根据由相位控制单元检测到的相位角将RF电力顺序地施加至分离式等离子体电极。在分离式等离子体电极单元上顺序地施加高频RF电力解决了在对应于大面积晶片的大面积上施加的等离子体中的驻波问题。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体反应器 等离子体电极 等离子体 大面积晶片 施加 相位控制单元 太阳能电池 沉积薄膜 分立电极 电极 相位角 驻波 检测 制造 | ||
【主权项】：
1.用于产生等离子体的等离子体反应器，所述等离子体反应器包括：缓冲室；分离式等离子体电极单元，包括多个分立电极并设置在所述缓冲室内；至少一个工艺气体入口，用于接收相应的工艺气体并用于将相应的工艺气体注入至所述缓冲室中靠近所述分立电极；处理室，在所述处理室中，能够通过所述分立电极选择性地激励所述工艺气体来形成等离子体；衬底支承件，设置在所述处理室的下端以支承衬底，所述等离子体沉积在所述衬底上；RF电力单元，用于供应RF电力；以及相位控制单元，用于将从所述RF电力单元接收的RF电力顺序地施加至所述分离式等离子体电极单元中的每个分立电极。
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