[发明专利]具有分离式电极的等离子体反应器

权利要求书

1.用于产生等离子体的等离子体反应器，所述等离子体反应器包括：

缓冲室；

分离式等离子体电极单元，包括多个分立电极并设置在所述缓冲室内；

至少一个工艺气体入口，用于接收相应的工艺气体并用于将相应的工艺气体注入至所述缓冲室中靠近所述分立电极；

处理室，在所述处理室中，能够通过所述分立电极选择性地激励所述工艺气体来形成等离子体；

衬底支承件，设置在所述处理室的下端以支承衬底，所述等离子体沉积在所述衬底上；

RF电力单元，用于供应RF电力；以及

相位控制单元，用于将从所述RF电力单元接收的RF电力顺序地施加至所述分离式等离子体电极单元中的每个分立电极。

2.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述相位控制单元将所述分离式等离子体电极单元中的每个分立电极与所述RF电力的相位角或相位角的范围相关联，所述相位控制单元检测从所述RF电力单元接收的RF电力的相位，并将所述RF电力选择性地施加至所述等离子体电极单元的、与所检测的RF电力的相位角相关的分立电极。

3.根据权利要求2所述的等离子体反应器，其中，

所述分离式等离子体电极单元包括在基本水平的平面中彼此间隔开的第一等离子体电极、第二等离子体电极、第三等离子体电极和第四等离子体电极，以及

所述相位控制单元将所述分离式等离子体电极单元中的每个分立电极与所述RF电力的基本为0°(360°)、90°、180°和270°的相位角中的一个相位角顺序地关联。

4.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述分离式等离子体电极单元的分立电极：

在基本水平的平面中彼此间隔开；

与待设置在所述衬底支承件上的晶片的形状对应地布置；以及

通过绝缘体彼此绝缘。

5.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述至少一个工艺气体入口包括多个工艺气体入口，每个工艺气体入口与所述多个分立电极中的相应分立电极相关联。

6.根据权利要求5所述的等离子体反应器，还包括：

分隔壁，从所述缓冲室的顶部向下延伸并处于所述缓冲室内的所述多个分立电极之间，用于将所述工艺气体彼此隔开，所述缓冲室向下敞开以允许所述工艺气体被相应的分立电极激励，并由此在所述处理室内形成所述等离子体。