[发明专利]具有分离式电极的等离子体反应器在审
| 申请号： | 201780025734.7 | 申请日： | 2017-04-11 |
| 公开（公告）号： | CN109072420A | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 金东秀;朱敏秀 | 申请（专利权）人： | 雷特罗萨米科技有限责任公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23F1/00;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京英赛嘉华知识产权代理有限责任公司 11204 | 代理人： | 王达佐;王艳春 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子体反应器，用于产生在诸如太阳能电池制造中的大面积晶片上沉积薄膜中使用的等离子体。等离子体反应器中的等离子体电极单元被划分成多个分立电极，并且根据由时序控制单元控制的预定时序的时间间隔(temporal interval)将RF电力顺序地施加至分离式等离子体电极。在分离式等离子体电极单元上顺序地施加RF电力解决了在对应于大面积晶片的大面积上施加的等离子体中的驻波问题。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体反应器 等离子体电极 等离子体 大面积晶片 施加 时序控制单元 太阳能电池 沉积薄膜 分立电极 预定时序 电极 驻波 制造 | ||
【主权项】：
1.用于等离子体处理的等离子体反应器，包括：缓冲室；分离式等离子体电极单元，包括多个分立电极并设置在所述缓冲室内；至少一个工艺气体注入口，用于接收相应的工艺气体并用于将相应的工艺气体注入至所述缓冲室中靠近所述分立电极；处理室，在所述处理室中，能够通过所述分立电极选择性地激励所述工艺气体来形成等离子体；衬底支承件，设置在所述处理室的下端以支承衬底，所述等离子体沉积在所述衬底上；RF电力单元，用于供应RF电力；以及时序控制单元，用于将一个分立电极与预定时序内的多个时间间隔中的每个相关联，并且用于根据所述预定时序的多个时间间隔将从所述RF电力单元接收的RF电力顺序地施加至所述多个分立电极。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于雷特罗萨米科技有限责任公司，未经雷特罗萨米科技有限责任公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201780025734.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：溅射靶材
- 下一篇：具有分离式电极的等离子体反应器
- 同类专利
- 专利分类
