[发明专利]具有分离式电极的等离子体反应器

权利要求书

1.用于等离子体处理的等离子体反应器，包括：

缓冲室；

分离式等离子体电极单元，包括多个分立电极并设置在所述缓冲室内；

至少一个工艺气体注入口，用于接收相应的工艺气体并用于将相应的工艺气体注入至所述缓冲室中靠近所述分立电极；

处理室，在所述处理室中，能够通过所述分立电极选择性地激励所述工艺气体来形成等离子体；

衬底支承件，设置在所述处理室的下端以支承衬底，所述等离子体沉积在所述衬底上；

RF电力单元，用于供应RF电力；以及

时序控制单元，用于将一个分立电极与预定时序内的多个时间间隔中的每个相关联，并且用于根据所述预定时序的多个时间间隔将从所述RF电力单元接收的RF电力顺序地施加至所述多个分立电极。

2.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述时序控制单元还包括降压单元，所述降压单元用于在所述时序控制单元将从所述RF电力单元接收的所述RF电力施加至所述多个分立电极之前降低所述RF电力的电压。

3.根据权利要求2所述的等离子体反应器，其中，

所述分离式等离子体电极单元包括在基本水平的平面中彼此间隔开的第一等离子体电极单元、第二等离子体电极单元、第三等离子体电极单元和第四等离子体电极单元，

所述预定时序包括四个时间间隔，以及

所述时序控制单元将所述预定时序内的一个时间间隔与所述多个分立电极中的相应一个相关联。

4.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述时序控制单元还包括相位调制单元，所述相位调制单元用于通过相位调制转换从所述RF电力单元接收的所述RF电力的频率。

5.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述分离式等离子体电极单元的分立电极：

在基本水平的平面中彼此间隔开；

与待设置在所述衬底支承件上的晶片的形状对应地布置；以及

通过绝缘体彼此绝缘。

6.根据权利要求1所述的等离子体反应器，其中，所述至少一个工艺气体注入口包括多个工艺气体注入口，每个工艺气体注入口与所述多个分立电极中的相应一个相关联。

7.根据权利要求6所述的等离子体反应器，还包括：

分隔壁，从所述缓冲室的顶部向下延伸并处于所述缓冲室内的所述多个分立电极之间，用于将所述工艺气体彼此隔开，所述缓冲室向下敞开以允许所述工艺气体被相应的分立电极激励，并由此在所述处理室内形成所述等离子体。