[发明专利]物理量测定装置及其制造方法、以及物理量测定元件有效

专利信息
申请号: 201780022928.1 申请日: 2017-04-13
公开(公告)号: CN109154531B 公开(公告)日: 2020-09-29
发明(设计)人: 青柳拓也;内藤孝;三宅龙也;芝田瑞纪;小贯洋;寺田大介;小松成亘 申请(专利权)人: 日立汽车系统株式会社
主分类号: G01L9/00 分类号: G01L9/00;G01D21/00;H01L29/84
代理公司: 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 代理人: 肖华
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供一种使接合层的接合温度降低到不影响半导体芯片动作的温度,确保半导体芯片和基台的绝缘性的物理量测定装置。包括:基台(隔膜(14b));基于作用于基台的应力来测定物理量的半导体芯片(应变检测元件(30));将半导体芯片接合到基台的接合层(20)。接合层(20)具有:接合于半导体芯片的第一接合层(21);接合于基台的第二接合层(22);配置于第一接合层(21)和第二接合层(22)之间的绝缘基材(23)。第一接合层(21)及第二接合层(22)包含玻璃。第一接合层(21)的热膨胀系数为第二接合层(22)的热膨胀系数以下,第一接合层(21)的软化点为半导体芯片的耐热温度以下,第二接合层(22)的软化点为第一接合层(21)的软化点以下。
搜索关键词: 物理量 测定 装置 及其 制造 方法 以及 元件
【主权项】:
1.一种物理量测定装置,包括:基台;半导体芯片,其基于作用于该基台的应力来测定物理量;接合层,其将该半导体芯片接合到所述基台,所述物理量测定装置的特征在于,所述接合层具有:第一接合层,所述第一接合层接合于所述半导体芯片;第二接合层,所述第二接合层接合于所述基台;绝缘基材,所述绝缘基材配置于所述第一接合层和所述第二接合层之间,所述第一接合层以及所述第二接合层包含玻璃,所述第一接合层的热膨胀系数为所述第二接合层的热膨胀系数以下,所述第一接合层的软化点为所述半导体芯片的耐热温度以下,所述第二接合层的软化点为所述第一接合层的软化点以下。
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