[发明专利]集落形成培养基及其用途有效

专利信息
申请号: 201780017613.8 申请日: 2017-03-14
公开(公告)号: CN108884441B 公开(公告)日: 2022-05-06
发明(设计)人: I·斯卢克文;G·乌伊尼什;D·黑;D·德里耶 申请(专利权)人: 洋蓟治疗有限公司
主分类号: C12N5/0775 分类号: C12N5/0775;A61K35/28;A61P37/06;A61P37/02;A61P25/00;A61P19/00;A61P9/00;A61P9/10;A61P1/00
代理公司: 北京坤瑞律师事务所 11494 代理人: 封新琴
地址: 澳大利亚*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明涉及一种用于产生间充质干细胞(MSC)的方法,所述方法包括在含氧量正常的条件下在包含LiCl和FGF2但不包含PDGF的间充质集落形成培养基(M‑CFM)中培养原始中胚层细胞持续足以形成间充质集落的时间,和贴壁培养所述间充质集落以产生所述MSC,其中相对于不在所述M‑CFM中产生的MSC,所述MSC具有卓越的T细胞免疫抑制特性。本发明还涉及通过所述方法产生的MSC,通过所述方法产生的MSC的群体,包含通过所述方法产生的MSC的治疗性组合物,M‑CFM和浓缩形式的M‑CFM,以及所述MSC或群体在治疗疾病中的方法和用途。
搜索关键词: 集落 形成 培养基 及其 用途
【主权项】:
1.一种间充质干细胞(MSC),其表达miR‑145‑5p、miR‑181b‑5p和miR‑214‑3p,但是不表达miR‑127‑3p或miR‑299‑5p。
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