[发明专利]计算用于控制制造工艺的校正的方法、计量设备、器件制造方法和建模方法有效
| 申请号： | 201780015925.5 | 申请日： | 2017-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN108713166B | 公开（公告）日： | 2021-03-09 |
| 发明（设计）人： | E·P·施密特-韦弗;A·B·伊斯梅尔;K·博哈塔查里亚;P·德尔温 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;崔卿虎 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 校正(CPE)被计算用于在控制光刻设备(100)时使用。使用计量设备(140)，测量(200)先前已经被施加光刻工艺的一个或多个衬底上的采样位置处的性能参数。将工艺模型拟合(210)到测量的性能参数，并且针对衬底上的工艺引起的效应提供上采样的估计。使用驱动模型并且至少部分地基于拟合的工艺模型，计算(230)用于在控制光刻设备时使用的校正。对于测量数据(312)可用的位置，将其添加(240)到估计以替换工艺模型值。因此，驱动校正的计算基于作为由工艺模型估计的值(318)的组合的已修改估计(316)并且部分地基于实际测量数据(312)。 | ||
| 搜索关键词： | 计算 用于 控制 制造 工艺 校正 方法 计量 设备 器件 建模 | ||
【主权项】：
1.一种计算用于在制造工艺中使用的校正的方法，所述方法包括：测量一个或多个衬底上的采样位置处的性能参数；将工艺模型拟合到所测量的性能参数；以及至少部分地基于所拟合的工艺模型来计算所述校正，其中所述校正的计算部分地基于所拟合的工艺模型并且部分地基于所测量的性能参数。
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