[发明专利]计算用于控制制造工艺的校正的方法、计量设备、器件制造方法和建模方法

权利要求书

1.一种将测量和建模数据组合以用于在制造工艺中使用的方法，所述方法包括：

获得一个或多个衬底上的采样位置处的性能参数的测量；

将工艺模型拟合到所获得的测量；

使用所述工艺模型来确定所述性能参数的一个或多个估计；以及

将所述一个或多个估计与一个或多个所获得的测量进行组合，以获得所述性能参数的一个或多个修改的估计，

其中所述组合包括以下中的至少一项：

由所述采样位置中的至少一个采样位置处的所述性能参数的测量来替换估计；

对所述采样位置中的至少一个采样位置处的所述性能参数的所述测量和所述估计进行求平均；以及

将所述估计与从所述采样位置中的至少一个采样位置处的所述一个或多个所获得的测量导出的外推值进行组合。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个估计包括在所述采样位置的位置处的估计。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述一个或多个估计和所获得的测量与衬底的位置相关联。

4.根据权利要求1所述的方法，其中针对衬底上的多个位置获得所述一个或多个修改的估计。

5.根据权利要求4所述的方法，进一步包括基于所述修改的估计来计算校正的步骤。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述校正的计算主要基于在测量步骤中采样的一个或多个位置处的测量的性能参数，并且主要基于在其他位置处的拟合的工艺模型的值。

7.根据权利要求1所述的方法，其中所述制造工艺包括图案被施加到衬底的光刻图案化步骤，其中所计算的校正用于在所述图案化步骤中使用。

8.根据权利要求7所述的方法，其中在所述图案化步骤中，在每个衬底上的多个场位置处所述图案被重复施加，并且其中所计算的校正随着所述场位置而变化。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述性能参数是套刻。

10.一种计算用于在制造工艺中使用的校正的方法，所述方法包括：

获得一个或多个衬底上的采样位置处的性能参数的测量；

将工艺模型拟合到所获得的所述性能参数的测量；以及

至少部分地基于所拟合的工艺模型来计算所述校正，

其中所述校正的计算部分地基于所拟合的工艺模型，并且部分地基于所测量的性能参数，

其中所拟合的工艺模型提供与所测量的性能参数中表示的采样位置相比具有更大采样密度的值。

11.一种用于获得用于在监控制造工艺中使用的测量的计量系统，所述计量系统包括：

检查装置，用于测量一个或多个衬底上的采样位置处的性能参数；以及

处理装置，用于将工艺模型拟合到所测量的性能参数，并且基于所述工艺模型来生成所述性能参数的一个或多个估计，

其中所述处理装置被布置为组合所述一个或多个估计和一个或多个获得的测量，以获得所述性能参数的一个或多个修改的估计，

其中所述组合包括以下中的至少一项：

由所述采样位置中的至少一个采样位置处的所述性能参数的测量来替换估计；

对所述采样位置中的至少一个采样位置处的所述性能参数的所述测量和所述估计进行求平均；以及

将所述估计与从所述采样位置中的至少一个采样位置处的所述一个或多个获得的测量导出的外推值进行组合。