[发明专利]过硫酸溶液制造供给装置及方法有效
| 申请号： | 201780010114.6 | 申请日： | 2017-03-07 |
| 公开（公告）号： | CN108603299B | 公开（公告）日： | 2020-08-14 |
| 发明（设计）人： | 小川祐一 | 申请（专利权）人： | 栗田工业株式会社 |
| 主分类号： | C25B15/08 | 分类号： | C25B15/08;C25B1/30;C25B9/18;H01L21/304 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 向勇 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种过硫酸溶液制造供给装置及方法，其能缩短半导体晶片清洗装置中的过硫酸溶液的更换时间。在通过第1电解系统(20)向清洗槽(11)循环供给过硫酸溶液的期间，水和硫酸导入第2电解系统的贮存槽(41)，并且通过泵(44)、配管(45)、电解单元(50)、气液分离器(52)、配管(53)而循环，由此生成过硫酸。在进行化学变化时，在从第1电解系统(20)排液之后，将贮存槽(41)内的过硫酸溶液移送至贮存槽(22)。 | ||
| 搜索关键词： | 硫酸 溶液 制造 供给 装置 方法 | ||
【主权项】：
1.一种过硫酸溶液制造供给装置，具有对晶片清洗装置循环供给过硫酸溶液的第1电解系统，所述过硫酸溶液制造供给装置的特征在于，具备：用于生成过硫酸溶液的第2电解系统，该第2电解系统与所述第1电解系统分别地设置；以及移送装置，将电解溶液从第2电解系统移送至第1电解系统。
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