[发明专利]过硫酸溶液制造供给装置及方法

权利要求书

1.一种过硫酸溶液制造供给装置，具有对晶片清洗装置循环供给过硫酸溶液的第1电解系统，所述过硫酸溶液制造供给装置的特征在于，具备：

用于生成过硫酸溶液的第2电解系统，该第2电解系统与所述第1电解系统分别地设置；以及

移送装置，将电解溶液从第2电解系统移送至第1电解系统。

2.如权利要求1所述的过硫酸溶液制造供给装置，其中，

所述第1电解系统具备：第1贮存槽，将循环供给至晶片清洗装置的过硫酸溶液进行贮存；以及第1电解单元，对从所述第1贮存槽供给的液体进行电解处理，并将电解处理后的液体送回至所述第1贮存槽，

第2电解系统具备：第2贮存槽；第2电解单元，对从所述第2贮存槽供给的液体进行电解处理，并将电解处理后的液体送回至所述第2贮存槽；以及，将硫酸及水供给至第2贮存槽的装置。

3.一种过硫酸溶液制造供给方法，其中，

使用权利要求1或2所述的过硫酸溶液制造供给装置将过硫酸溶液供给至晶片清洗装置，

在用所述晶片清洗装置来清洗晶片的工序的至少一部分中，用第2电解系统进行电解处理以生成过硫酸溶液，

在进行所述晶片清洗装置及第1电解系统的过硫酸溶液更换时，在从所述晶片清洗装置及第1电解系统排出过硫酸溶液后，将过硫酸溶液从第2电解系统移送至该第2电解系统。