[发明专利]用于多光束检验系统的场曲率校正在审
| 申请号： | 201780009352.5 | 申请日： | 2017-02-01 |
| 公开（公告）号： | CN108604562A | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | A·D·布罗迪;R·克尼彭迈耶;C·西尔斯;J·劳斯;G·H·陈 | 申请（专利权）人： | 科磊股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/66 | 分类号： | H01L21/66;H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 张世俊 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 揭示多光束电子束柱及使用此些多光束电子束柱的检验系统。根据本发明配置的多光束电子束柱可包含电子源及多透镜阵列，所述多透镜阵列经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束。所述多透镜阵列可进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。 | ||
| 搜索关键词： | 细光束 多光束 电子束柱 多透镜 检验系统 电子源 焦点 电子产生 发明配置 场曲率 移位 配置 校正 | ||
【主权项】：
1.一种设备，其包括：电子源；及多透镜阵列，其经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束，所述多透镜阵列进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
