[发明专利]用于多光束检验系统的场曲率校正

权利要求书

1.一种设备，其包括：

电子源；及

多透镜阵列，其经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束，所述多透镜阵列进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同。

2.根据权利要求1的设备，其进一步包括：

至少一个额外透镜，其经配置以接收所述多个细光束且朝向目标传递所述多个细光束。

3.根据权利要求2所述的设备，其中所述多透镜阵列经配置以补偿所述至少一个额外透镜的预期焦点移位。

4.根据权利要求3所述的设备，其中所述多透镜阵列包含具有界定在其中的开口的至少三个静电板以形成单透镜阵列。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述至少三个静电板中的至少一个特定静电板经配置以支持围绕界定在所述至少一个特定静电板上的所述开口施加个别可寻址电势。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述至少一个特定静电板是具有蚀刻在其中的所述开口的氧化硅板，其中用导电材料个别地涂布所述开口以容许个别可寻址电势施加于所述开口。

7.根据权利要求5所述的设备，其中至少部分地基于所述至少一个额外透镜的所述预期焦点移位确定所述个别可寻址电势。

8.根据权利要求4所述的设备，其中所述至少三个静电板中的至少一个静电板经配置以充当孔径透镜阵列。

9.根据权利要求4所述的设备，其中所述多透镜阵列进一步包含定位在所述至少三个静电板中的两个邻近静电板之间的至少一个绝缘层。

10.根据权利要求1所述的设备，其中所述设备经调适以在检验系统中充当多光束电子束柱。

11.一种设备，其包括：

电子源；

多透镜阵列，其经配置以利用由所述电子源提供的电子产生多个细光束，所述多透镜阵列进一步经配置以移位所述多个细光束中的至少一个特定细光束的焦点，使得所述至少一个特定细光束的所述焦点与所述多个细光束中的至少一个其它细光束的焦点不同；及

至少一个额外透镜，其经配置以接收所述多个细光束且朝向目标传递所述多个细光束。

12.根据权利要求11所述的设备，其中所述多透镜阵列经配置以补偿所述至少一个额外透镜的预期焦点移位。

13.根据权利要求12所述的设备，其中所述多透镜阵列包含具有界定在其中的开口的至少三个静电板以形成单透镜阵列。

14.根据权利要求13所述的设备，其中所述至少三个静电板中的至少一个特定静电板经配置以支持围绕界定在所述至少一个特定静电板上的所述开口施加个别可寻址电势。

15.根据权利要求14所述的设备，其中基于所述至少一个额外透镜的所述预期焦点移位至少部分地确定所述个别可寻址电势。

16.根据权利要求15所述的设备，其中所述至少三个静电板中的至少一个静电板经配置以充当孔径透镜阵列。